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坎普爾電除鹽EDI模塊

坎普爾電除鹽EDI模塊

2018-07-30 06:15:40admin 646

參考價格:

Canpure電除鹽EDI模塊采用模塊化技術(shù),通過不同數(shù)量的模塊搭配,可以使用各種水處理要求。

EDI電除鹽技術(shù)簡介:
 
     相當長的一段時間,許多水處理公司試圖尋找一種操作簡單、無需酸堿再生的技術(shù)來替代混床技術(shù)。現(xiàn)在坎普爾EDI連續(xù)電除鹽技術(shù)已經(jīng)實現(xiàn)了這個夢想。而加拿大坎普爾公司的EDI品牌Canpure CP-500S在全球范圍約占據(jù)一定的市場份額。Canpure電除鹽EDI模塊采用模塊化技術(shù),通過不同數(shù)量的模塊搭配,可以使用各種水處理要求。其為發(fā)電、半導體、微電子、化工以及生物制藥等行業(yè)的高純水的生產(chǎn)提供了有力的保障。具有CE、UL、和CSA標識,歐洲FDA衛(wèi)生認證,通過ISO900L:2000認證。能夠穩(wěn)定生產(chǎn)出電阻率高達18MΩ.cm的超純水。滿足高端用水要求的客戶。


 
EDI與傳統(tǒng)混床的比較:
 
  工藝比混床先進
  無需化學品再生,不會產(chǎn)生酸堿廢水
  EDI運行成本大幅低于混床
  EDI連續(xù)運行,操作簡單
  減少純水設(shè)備占地空間
  連續(xù)提供18兆歐的高純水

 
 
Canpure坎普爾EDI模塊技術(shù)參數(shù):
給水總可交換陰離子 (mg/L,CaCO3)
≤35
給水總硬度 (mg/L,CaCO3)
≤10
給水硅 (mg/L)
≤0.5
  EDI利用傳統(tǒng)的離子交換樹脂將水中的污染離子去除,其較大的優(yōu)點在于:EDI技術(shù)采用直流電迫使污染離子持續(xù)的從進水中遷移出來,并穿過離子床和離子交換膜進入濃水室,同時直流電能夠?qū)⑺肿与婋x成氫氧跟離子,持續(xù)的對樹脂進行再生。因此EDI可以持續(xù)穩(wěn)定生產(chǎn)高純水。
 
 
坎普爾EDI進水要求:
以下是保證EDI正常運行的較低條件,為了使系統(tǒng)運行結(jié)果更佳,系統(tǒng)設(shè)計時應適當提高。
  給水:通常為一級反滲透+軟化或二級反滲透產(chǎn)水,一般電導率為1-40μS/cm。。
TEA(總可交換陰離子):小于25ppm,以CaCO3計。由于進水中所含的CO2會轉(zhuǎn)化成HCO3-或CO32-,因此TEA(總可交換陰離子)中應包括CO2的量。
TEC(總可交換陽離子):小于25ppm,以CaCO3計。
pH:6.0~9.0(較佳電阻率性能對應的pH范圍為7.0~9.0,但是,在此pH條件下,硬度不能太高)。
  溫度:5-35°C。
  進水壓力:較大為4bar(60psi)。注意:組件壓力損失取決于流量。
  出水壓力:濃水和極水的出口壓力必須低于產(chǎn)品水的出口壓力。
  硬度(以CaCO3計):較大為1.0 ppm,取決于回收率高低。
  注意:EDI工藝需要限定進水硬度以免結(jié)垢。在進水硬度<0.1 ppm時坎貝爾™ EDI系統(tǒng)較高的回收率是95%;而當進水硬度>0.1 ppm時濃水中需要加鹽,而且需要定期清洗。在進水硬度超過0.5 ppm時必須事先得到易蒂艾公司的書面確認,否則坎貝爾™ EDI的質(zhì)量保證無效。若在超過允許的較大回收率下運行坎貝爾™ EDI模塊,會造成結(jié)垢和不可修復的損壞。坎普爾EDI,Canpure,EDI裝置
  有機物(TOC):較大為0.5 ppm。
  氧化劑:Cl2較大為0.05 ppm,O3較大為0.02 ppm。
  變價金屬:Fe較大為0.01 ppm,Mn較大為0.01 ppm。
H2S:較大為0.01 ppm。
  二氧化硅 :一般應小于0.5 ppm。
SDI 15min:小于1.0。
  色度:小于5 APHA。
  二氧化碳的總量:二氧化碳含量和pH值將明顯影響產(chǎn)品水電阻率。如果CO2大于10 ppm,坎貝爾™ EDI系統(tǒng)不能制備高純度的產(chǎn)品水。可以通過調(diào)節(jié)反滲透進水pH值或使用脫氣裝置來降低CO2量。
 
濃水循環(huán)
  坎普爾™ EDI系統(tǒng)一般需要濃水循環(huán)。但在某些條件下也可以不循環(huán),例如EDI給水硬度<0.1 ppm并且電導率較高的情況。
  濃水室的進出口壓力必須小于淡水室的進出口壓力,所以濃水的流量由壓力決定。
  在運行過程中,濃水循環(huán)可以增加濃水室的導電性,同時有助于提高濃水的流速以避免結(jié)垢。
  坎普爾™ EDI模塊的濃水流量較小不能低于產(chǎn)品水的10%。低于該流量運行時,濃水室容易結(jié)垢,也可能造成模塊內(nèi)部組成受熱變形而漏水。
  為避免濃水中離子過度積累,需要排放少量濃水,排放掉的濃水由進水補充。
  控制濃水的電導率在50到600 mS/cm之間。
  系統(tǒng)加鹽
  進水電導率低時,坎普爾™ EDI模塊的電流較小,這樣會影響產(chǎn)品水水質(zhì)。這時可以選擇加鹽裝置,來提高濃水電導率。
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